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2006.11.01

【意匠・商標 NEWS】 意匠: 日本、中国、台湾

日本
2007年4月1日 改正法による関連意匠制度の施行日と経過措置

2006年6月7日に交付された意匠法等の一部の改正の施行日が10月27日付で交付された。画面デザインの保護の拡充、部分意匠・関連意匠の見直し、秘密意匠の請求時期の追加、意匠権存続期間延長、意匠の類似範囲の明確化が主な内容で、併せて本意匠消滅後の関連意匠分離移転禁止についての経過措置も適用となる。
http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/torikumi/puresu/press_isyou_sekou.htm

中国
2006年9月3日 特許法改正案の公示

国家知的財産局は特許法改正に向けて改正案を提示し意見の集約を進めている。現在までに明らかになっている主な改正点は、中国での発明の第1カ国出願義務の拡大、新規性阻害先行技術対象の拡大、意匠への創作性テストの導入、意匠権対象範囲の拡大、無審査の実案及び意匠権の権利行使前調査義務の導入、権利範囲の判定テストの導入、先使用の抗弁の導入、法定損害上限額の増額、平行輸入非侵害の規定など。

台湾
2006年8月2日 フィリピンが台湾出願を基礎とする優先権主張を公式に認可

台湾知的財産局は9月12日付で、フィリピン知的財産局によって台湾出願をベースとする優先権主張出願が拒絶されていた事態が解決したと発表した。台湾は2002年1月1日にWTOに加盟し、TRIPs規定を享受できる立場にあった。特許、実案、意匠と商標出願に適用される。商標も同じであるので、掲載省略。

(意匠商標部 相澤)

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