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2011.07.20

横倉

【特許・意匠ニュース】 アメリカ

米国 -Patent Reform Act両院を通過、最終局面へ-
法改正案がついに両院を通過。但し上院、下院でそれぞれ通過した法改正案には相違点があり、今後両院協議会での調整が必要とされる(調整後、大統領が署名を行えば、その後施行となる予定)。この法改正案には先願主義の採用などが盛り込まれており、今後の動向が注目される。

(特許部 横倉)

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