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本年5月25日に、ラオスにおける改正知的財産法が、官報に公示されました。改正知的財産法は、官報に公示されてから15日後に発効します。商標に関しては、下記の改正が含まれています。

1. 異議申立制度の導入
旧法では、異議申立制度はなく、登録後に取消・無効請求を提起するほかありませんでしたが、改正法により、登録前の異議申立制度が導入されます。出願の書類審査後に公告され、公告日から60日間、異議申立が可能となります。

＊異議申立制度の詳細はまだ不明です。詳細が分かり次第、お知らせする予定です。

2. 商標権の有効期間に関する起算日の変更
旧法では、商標権の有効期間は登録日から10年でしたが、改正法により、出願日から10年に変更されます。

3. 商標の定義の拡大
改正法により、商標の定義が拡大され、立体商標及び動き商標の出願が認められるようになります。

（商標部　研壁）