IP NEWS知財ニュース

昨年12月18日より、改正知的財産法が施行されています。商標について重要な改正点は以下の通りです。

1. 実体審査制度の新設
旧法下では方式審査のみ行われていましたが、改正法により、実体審査として絶対的登録要件及び相対的登録要件の両方の審査が行われます。

2. 分割出願制度の新設
登録前であればいつでも、分割出願が認められることとなりました。

3. 異議申立制度の変更
異議答弁書の提出期限が、6ヵ月から2ヵ月に短縮されました。

4. 税関による水際取締の強化
税関はトランジットにある模倣品についても取締まり権限を有することになりました。

（商標部　研壁）