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中国企業との技術ライセンス契約に関する法的リスクとその対策
http://www.ngb.co.jp/cgi-bin/book/bookSearchAction.cgi?action=more&bookid=361
本書は、中国企業と技術ライセンス契約を締結する場合、日本・日系企業が法的リスクを回避・制限するための対策について纏めた解説書です。
高い技術力を有する我が国の産業界にとってライセンス活動は重要であり、特に中国企業への技術のライセンスは活発に行われています。
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1.　Drafting Patent License Agreements
～特許ライセンス契約書の書き方～
http://www.ngb.co.jp/cgi-bin/book/bookSearchAction.cgi?action=more&bookid=76
特許ライセンスに特化した契約書作成解説書の最新8版。約200種類の条項や書式のサンプルやフォームが掲載されたオンラインにアクセスすることができます。

2．　Patent Prosecution
～米国特許出願実務～
http://www.ngb.co.jp/cgi-bin/book/bookSearchAction.cgi?action=more&bookid=66
米国特許出願審査において直面する実務上の問題に対処し、克服するための戦略を、詳細かつ分かりやすく解説した参考書の決定版。判例ダイジェストを収録したCD-ROMも同封。
最新10th Editionが発行され、内容がアップデイトされております。

3.　Patent Trademark Copyright Journal on the Web（ウェブ版）
http://www.ngb.co.jp/cgi-bin/book/bookSearchAction.cgi?action=more&bookid=278
日本へ多大な影響を与える米国の知財動向は知財実務者にとって非常に重要な情報です。そこで、米国知的財産情報をいち早くかつ正確に理解、活用するツールとしてPatent Trademark Copyright Journal （以下PTCJ）をご紹介させていただきます。
PTCJは米国の最新知財事情を定期的に報告・解説をする情報誌です。米国における知的財産のホットな情報を毎週お届けし、実務者にはPTCJとして親しまれております。
また、PTCJウェブ版はPTCJの機能を更に拡張したもので、主に下記のようなメリットがございます。
１　内容がアップデートされると同時に閲覧可能。
２　1995年の記事まで検索及び閲覧可能。
３　キーワード、年月日等様々な条件で内容の検索が可能。
４　記事に関連ある資料（例えば裁判所判決文等）へのリンク付。
是非、この機会にご検討いただければ幸いです。

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